• محاسبه خواص اپتیکی لایه های نازک اکسید روی به دو روش مختلف اسپکتروسکوپی الیپسومتری و کرامرز- کرونیگ

    جزئیات بیشتر مقاله
    • تاریخ ارائه: 1395/09/20
    • تاریخ انتشار در تی پی بین: 1395/09/20
    • تعداد بازدید: 1018
    • تعداد پرسش و پاسخ ها: 0
    • شماره تماس دبیرخانه رویداد: -

    لایه های نازک اکسید روی به روش سل-ژل با سرعت انباشت 3600 دور در دقیقه در دمای اتاق ساخته شدند. بلافاصله بعد از لایه نشانی لایه ها در دمای c°200 به مدت 10 دقیقه حرارت دیدند. سپس لایه ها به مدت یک ساعت در دمای c°500 بازپخت شدند. ضرایب بازتاب برای لایه ها با استفاده از دستگاه اسپکتوسکوپی الیپسومتری در زاویه فرود 70 درجه بدست آمدند. خواص اپتیکی لایه های نازک اکسید روی از جمله ضریب شکست و ضریب خاموشی به دو روش مختلف اسپکتروسکوپی الیپسومتری و کرامرز کرونیگ محاسبه شد. گاف نواری انرژی نیز برای لایه های تهیه شده بدست آمد.

سوال خود را در مورد این مقاله مطرح نمایید :

با انتخاب دکمه ثبت پرسش، موافقت خود را با قوانین انتشار محتوا در وبسایت تی پی بین اعلام می کنم
مقالات جدیدترین ژورنال ها