اینستاگرام تی پی بین
همایش ، رویداد ، ژورنال
حوزه های تحت پوشش رویداد
  • تاثیر فاصله زیرلایه تا بوته بر مورفولوژی و خواص ساختاری نانوساختارهای sio2 تهیه شده به روش تبخیر حرارتی

    جزئیات بیشتر مقاله
    • تاریخ ارائه: 1392/07/24
    • تاریخ انتشار در تی پی بین: 1392/07/24
    • تعداد بازدید: 659
    • تعداد پرسش و پاسخ ها: 0
    • شماره تماس دبیرخانه رویداد: -
    نانوساختارهای sio2 بر روی زیرلایه سیلیکون (100) در دمای 1150°c در فواصل 4 و 10 سانتیمتری از بوته به روش تبخیر حرارتی سنتز شدند. لایه ها توسط میکروسکوپ الکترونی روبشی (sem) و نیز طیف های eds و xrd مورد بررسی قرار گرفتند. نتایج بدست آمده حاکی از آن است که هر چند نمونه نزدیکتر به بوته به صورت لایه ای نازک با ساختار بسبلوری دو فازی و عاری از تخلخل است. نمونه دورتر به صورت لایه ای متخلخل و مملو از نانوسیم ها با قطری در حدود 100nm و طول چندین میکرون به صورت تک فاز رشد یافته است.

سوال خود را در مورد این مقاله مطرح نمایید :

با انتخاب دکمه ثبت پرسش، موافقت خود را با قوانین انتشار محتوا در وبسایت تی پی بین اعلام می کنم
مقالات جدیدترین ژورنال ها