بررسی افزایش ضخامت لایه متخلخل در بازدهی سلول های خورشیدی نانو ساختار حساس شده با رنگدانه

به منظور بررسی اثر ضخامت در بازه سلول های خورشیدی رنگدانه ای بر پایه ی نیم رسانای tio₂، به کمک روش دکتر بلید لایه ی متخلخل اکسید رسانای فلزی دی اکسید تیتانیوم بر روی زیر لایه ی fto لایه نشانی شد. به منظور افزایش ضخامت، لایه نشانی در چند مرحله انجام شد. تصاویر sem گرفته شده از لایه ها نشان داد که این سطوح از لحاظ تعداد تهی جاها، ساختار اگولومره و تعداد مرزدانه ها تفاوت ناچیز دارند که تمامی این مشخصه ها بر سرعت حرکت الکترون در سطح الکترود موثر می باشد و مسیر حرکت الکترون را تحت تاثیر قرار می دهند. سلول های خورشیدی حساس شده با رنگینه به کمک شیشه fto، لایه متخلخل tio₂، الکترولیت، رنگ n719 و پلاتین ساخته شدند. پس از مراحل حرارت دهی و بستن سلول ها تست (i-v) جریان- ولتاژ از نمونه ها گرفته شد. با استفاده از این تست اطلاعاتی شامل ولتاژ مدار باز (v_oc)، جریان مدار کوتاه (j_sc)، فاکتور پرشدگی (ff) و بازده هر سلول بدست آمد در نهایت با بررسی نتایج و تست جریان- ولتاژ به این نتیجه رسیدیم که، تحت تاثیر ویژگی های فیزیکی سطح مانند، ضخامت، زبری، میزان ناهمواری، تعداد تهی جاها و میزان اگلومره شدن سطح قرار می گیرد.